1、 靶材的定義

靶材是通過物理氣相沉積技術鍍膜的濺射源。在沉積鍍膜過程中，濺射源猶如靶子，受到離子束和電子束的轟擊，就像打靶一樣，所以就稱目標濺射源材料為靶材 。

濺射靶材屬于靶材的一種，是通過磁控濺射技術，形成的高能離子束轟擊基體濺射源材料，使基體材料的原子被濺射出鍍在表面沉積成膜，這種被濺射鍍膜的材料就稱為濺射靶材 。濺射靶材的實物圖如下圖1所示:

圖1 濺射靶材實物圖

2、靶材的分類

根據靶材材料種類的不同，主要分為金屬靶材、合金靶材和陶瓷靶材 。

1）金屬靶材

鋁靶、銅靶、鉬靶、鎢靶等金屬濺射靶材。

2）合金靶材

鋁硅合金靶、鎳銅合金靶、鎳釩合金靶等高純合金濺射靶材。

3）陶瓷靶材

ITO 靶、氧化鋅靶、二氧化硅靶、二氧化鋯靶等陶瓷濺射靶材。

3、靶材的應用

靶材作為一種鍍膜材料通過物理沉積或化學方法在基體表面生成一層薄膜，利用這層薄膜的良好光電、磁導和物理化學功能，可以制備出不同功能的電子元件和產品 。主要廣泛應用于以下領域中:

1）微電子領域

半導體電子產業在所有靶材的應用領域中需求量最大。特別是隨著集成電路的發展，從小規模集成電路到大規模集成電路的轉化，大量需要高純靶材作為電路配線，提高計算機的運算效率。并且在此領域對靶材的要求最高，不僅在純度上達到高純 5N 以上，并且在晶粒尺寸、內部組織、織構等方面有很高的要求。

2）顯示器

靶材也主要應用于平面顯示器(FPD) 中，其中最常用的是液晶顯示器(LCD)。LCD 廣泛應用于手機顯示屏、平板顯示屏和筆記本顯示屏，而液晶顯示屏主要采用濺射的方法制得 。因此濺射靶材在液晶顯示屏領域中起著重要的作用，其中 ITO 靶材在顯示器領域中迅速發展起來。

3）存儲

隨著現在計算機的應用和信息技術的發展，對信息的儲存也至關重要。而靶材作為新型的磁光記憶材料，制備出磁光盤和硬盤的儲存器具有大容量、高致密度和壽命長的優點，將廣泛應用于信息儲存產業中。

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