凱澤金屬，寶雞鈦靶、鉻靶、鎳靶、鋯靶等靶材生產(chǎn)廠家，多年來專注鈦多弧靶、平面靶、板靶、管靶、旋轉(zhuǎn)靶等靶材的深加工，有關(guān)靶材鍍膜的工藝，結(jié)合蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜的兩種不同，結(jié)合相關(guān)資料，分享如下：

真空蒸發(fā)膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中,用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到定溫度,使材料中分子或原子的熱振動能量超過表面的束縛能,從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華,并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子泥射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場的作用下的高諫運動轟擊作為陰極的靶,使靶材中的原子或分子逸出來而沉淀到被鍍工件的表面,形成所需要的薄膜。

真空蒸發(fā)鍍膜最常用的是電膽加熱法,其優(yōu)點是加熱源的結(jié)構(gòu)簡單,造價低廉,操作方便缺點是不適用于難焰金屬和耐高溫的介質(zhì)材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對被轟擊材料加熱,電子束的動能變成熱能,使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源,但由于大功率激光器的造價很高,目前只能在少數(shù)研究性實驗室中使用。

相關(guān)鏈接