光學(xué)器件用鋯靶材，主要是指用于物理氣相沉積（PVD），特別是磁控濺射工藝，以在高性能光學(xué)元件表面沉積特定功能薄膜的高純鋯金屬或鋯化合物材料。在精密光學(xué)領(lǐng)域，鋯以其高折射率、卓... 【詳情】

鋯靶材，作為一種高性能的濺射靶材，正在半導(dǎo)體與微電子領(lǐng)域展現(xiàn)出日益重要的價值。憑借鋯金屬及其化合物（如二氧化鋯、氮化鋯、硼化鋯）獨特的熱穩(wěn)定性、優(yōu)良的化學(xué)惰性、合適的電... 【詳情】

集成電路晶體管制造用鋯靶是以高純度金屬鋯（純度≥99.9%）或鋯合金（如Zr-Hf、Zr-Nb合金）為材質(zhì)?，通過濺射鍍膜工藝制備的薄膜沉積材料，具有高熔點（1852℃）、耐腐蝕、低熱中子吸收截面及優(yōu)異化學(xué)穩(wěn)定性?，需滿足高致密度、表面光滑無裂紋及尺寸精度（圓形/矩形規(guī)格）等標(biāo)準(zhǔn)?，主要用于MOSFET器件柵電極和金屬互連層，優(yōu)化導(dǎo)電性、熱穩(wěn)定性及集成密度?。... 【詳情】

產(chǎn)品名稱： 鋯圓靶 、鋯濺射圓靶標(biāo)準(zhǔn)： ASTM B551，GB/T21183牌號： R60702，R60704，R60705，Zr1純度： ≥99.6%密度： 6.51g/cm3規(guī)格： 根據(jù)客戶需求定做 質(zhì)量認(rèn)證： ISO 9001:2008... 【詳情】

產(chǎn)品名稱： 鋯圓靶 、鋯濺射圓靶標(biāo)準(zhǔn)： ASTM B551，GB/T21183牌號： R60702，R60704，R60705，Zr1純度： ≥99.6%密度： 6.51g/cm3規(guī)格： 根據(jù)客戶需求定做 質(zhì)量認(rèn)證： ISO 9001:2008... 【詳情】

產(chǎn)品名稱：鋯靶、鋯靶塊牌號：702、705密度：6.49 g/cm3成型：真空熔煉物流包裝：快遞，真空木箱包裝具體尺寸：平面靶、多弧靶、幫定靶材、圓柱，根據(jù)客戶圖紙加工。用途：鋯靶主要用于工具鍍... 【詳情】