| 產(chǎn)品名稱 | 鈦合金靶塊，鈦餅 |
| 牌號/材質 | TA1，TA2，TA3，TC4(Ti6AL4V)，GR1，GR2，GR3，GR5( Ti6AL4V) |
| 標準 | 鈦圓靶 ：技術條件：符合GB/T2695-1996，ASTMB348-97 鈦板靶 ：技術條件：符合GB/T3621-94，ASTM B265-93
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| 規(guī)格 | 圓靶：常用規(guī)格：60/65/95/100*30/32/40/45mm 板靶：(8-25)mm * (150-300) mm * (1000-2500)mm
管靶： 70mm * 7mm/10mm |
| 表面 | 車光，可加螺紋 |
| 特性 | 重量輕，優(yōu)異的抗腐蝕性，防腐性，強度高，耐熱性好，延展性好，無毒性，無磁性，優(yōu)良的機械強度等。 |
| 狀態(tài) | 退火態(tài)（M） 熱加工狀態(tài)（R） 冷加工狀態(tài)（Y）(退火，超生波探傷) |
| 應用 | 鈦靶材用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業(yè) |
| 品名 | 純度 | 密度 | 鍍膜優(yōu)勢色 | 形狀 | 常規(guī)尺寸 | 應用行業(yè) |
| 鈦鋁（TiAl）合金靶 | 2N8-4N | 3.6-4.2 | 玫瑰金/咖啡金 | 圓柱形 | 直徑
60/65/95/100*30/32/40/45mm | 裝飾/工具 |
| 純鉻（Cr）靶 | 2N7-4N | 7.19 | 白色/黑色 | 圓柱形 | 直徑
60/65/95/100*30/32/40/45mm | 裝飾/工具 |
| 純鈦（Ti）靶 | 2N8-4N | 4.51 | 金黃色/槍黑色/
藍色/玫瑰紅 | 圓柱形 | 直徑
60/65/95/100*30/32/40/45mm | 裝飾/工具 |
| 純鋯（Zr）靶 | 2N5-4N | 6.5 | 金色 | 圓柱形 | 直徑
60/65/95/100*30/32/40/45mm | 裝飾/工具 |
| 純鋁（Al）靶 | 4N-5N | 2.7 | 銀色 | 圓柱形 | 直徑
60/65/95/100*30/32/40/45mm | 裝飾/工具 |
| 純鎳（Ni）靶 | 3N-4N | 8.9 | 金屬本色 | 圓柱形 | 直徑
60/65/95/100*30/32/40/45mm | 裝飾/工具 |
| 鎳釩（Nir）靶 | 3N | 8.57 | 藍綠色 | 圓柱形 | 直徑
60/65/95/100*30/32/40/45mm | 裝飾/工具 |
| 純鈮(Nb）靶 | 3N | 8.57 | 白色 | 圓柱形 | 直徑
60/65/95/100*30/32/40/45mm | 裝飾/工具 |
| 純鉭（Ta）靶 | 3N5 | 16.4 | 黑色/紫色 | 圓柱形 | 直徑
60/65/95/100*30/32/40/45mm | 裝飾/工具 |
鈦靶概述及材質要求
1、純度
純度是靶材的主要性能指標之一，因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應用中，對靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，硅片尺寸由6”, 8“發(fā)展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求，而制備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。
2、雜質含量
靶材固體中的雜質和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質含量的要求也不同。例如，半導體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。
3、密度
為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學和光學性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和強度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應力。密度也是靶材的關鍵性能指標之一。
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